光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
A: 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
B: 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
C: 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
D: 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
A: 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
B: 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
C: 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
D: 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
C
举一反三
- 光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作的?() A: 打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 B: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀 C: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 D: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
- 光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作？ A: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 B: 打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 C: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶 D: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
- 光刻工艺流程为：底膜处理→前烘→涂胶→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶 A: 正确 B: 错误
- 中国大学MOOC: 光刻工艺流程为：底膜处理→前烘→涂胶→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶
- 光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。
内容
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光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。 A:
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光刻加工的主要阶段有 A: 涂胶 B: 曝光及显影 C: 坚膜 D: 腐蚀及去胶
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中国大学MOOC: 不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤：1. 刻蚀 2.前烘 3.显影 4. 去胶 5．涂胶 6. 曝光 7. 坚膜. 以下选项排列正确的是（ ）。
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不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤： 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是：（）。 A: 2561437 B: 5263471 C: 5263741 D: 5263714。
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不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤：1. 刻蚀 2.前烘 3.显影 4. 去胶 5．涂胶 6. 曝光 7. 坚膜. 以下选项排列正确的是（ ） A: 5263714 B: 5263741 C: 5263471 D: 2561437