光刻工艺流程一共可分为七大步骤，其中曝光之后的工艺是 。
A: 前烘
B: 后烘
C: 显影
D: 刻蚀
A: 前烘
B: 后烘
C: 显影
D: 刻蚀
举一反三
- 光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作的?() A: 打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 B: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀 C: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 D: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
- 光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作？ A: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 B: 打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶 C: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶 D: 打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
- 光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。
- 光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。 A:
- 光刻工艺流程为：底膜处理→前烘→涂胶→曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶 A: 正确 B: 错误