曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。

光刻工艺流程一共可分为七大步骤，其中曝光之后的工艺是 。 A: 前烘 B: 后烘 C: 显影 D: 刻蚀

光刻流程中通过加温烘烤使胶膜更牢固地黏附在晶圆表面，并可
以増加胶层的抗刻蚀能力的工艺步骤是（）。 A: 坚膜 B: 前烘 C: 后烘 D: 涂胶

张某，女，50岁，月经紊乱半年余。自述月经周期无规律，量少，每于午后烘热出汗，心烦易怒、手足心热、头晕耳鸣、咽干口渴。舌红体瘦，苔薄黄，脉细数。请问该患者所属病证及可选用的中成药。