金属有机化合物化学气相沉淀的缩写为（）。
A: LPCVD
B: MOCVD
C: ICPCVD
D: APCVD
A: LPCVD
B: MOCVD
C: ICPCVD
D: APCVD
B
举一反三
内容
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缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（）、（）、高密度等离子体化学气相淀积和（）。
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目前典型的CVD系统主要可分为三种，其中淀积温度最高的是 。 A: APCVD B: PECVD C: LPCVD D: MOCVD
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LPCVD的含义是（）。 A: 常压化学气相淀积 B: 低压化学气相淀积 C: 等离子体化学气相淀积 D: 光化学气相淀积
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化学气相沉积是______ ,英文缩写为______ 。
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以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有（ ）。 A: 液相外延（LPE）法 B: 化学气相沉积（CVD）法 C: 等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 D: 低压化学气相沉积（LPCVD）