制备石英光纤有多种方法，其中等离子体化学气相沉积法的缩写是（）
A: PCVD
B: CVD
C: MCVD
D: AVD
A: PCVD
B: CVD
C: MCVD
D: AVD
举一反三
- 化学气相沉积英文缩写是（）。 A: CVD B: PVD C: PCVD D: CNC
- 以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有（ ）。 A: 液相外延（LPE）法 B: 化学气相沉积（CVD）法 C: 等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 D: 低压化学气相沉积（LPCVD）
- 化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有（）。 A: 热丝化学气相沉积制备多晶硅 B: 低压化学气相沉积制备多晶硅 C: 非晶硅晶化制备多晶硅薄膜 D: 等离子增强化学气相沉积
- 物理气相沉积英文缩写是（）。 A: CVD B: PVD C: PCVD D: CNC
- 化学气相沉积（CVD）按照反应气压进行分类，可以分为？ A: 常压化学气相沉积 B: 低压化学气相沉积 C: 等离子体增强化学气相沉积 D: 高压气相沉积