APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名称分别是？
常压化学气相淀积、低压化学气相淀积、等离子增强化学气相淀积和高密度等离子体化学气相淀积
举一反三
内容
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比较APCVD、LPCVD和PECVD三种方法的主要异同?主要优缺点?
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()采用增强的等离子体,从而增加淀积能量,降低沉积温度。 A: APCVD B: LPCVD C: PECVD
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对于已经完成金属化工艺，介质的淀积常常采用哪种方法 A: APCVD B: LPCVD C: PECVD D: LCVD
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目前典型的CVD系统主要可分为三种，其中淀积温度最高的是 。 A: APCVD B: PECVD C: LPCVD D: MOCVD
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如果要求淀积非金属薄膜的台阶覆盖性(保角特性)好,应该使用下列哪种工艺?() A: APCVD B: LPCVD C: PECVD