关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 溅射法沉积氧化物薄膜过程中负氧离子对膜性能的影响是什么？ 溅射法沉积氧化物薄膜过程中负氧离子对膜性能的影响是什么？ 答案： 查看 举一反三 薄膜物理气相沉积（PVD）技术主要分为 、溅射沉积和 三种技术。 以下半导体工艺中可以用来制备薄膜的有() A: 拉单晶 B: 化学气相沉积 C: 物理气相沉积 D: 溅射 氧化物玻璃产生分相的原因，通常是由于阳离子对氧离子的争夺所引起 直流溅射只能沉积（）膜，而不能沉积（）膜，原因在于靶面的（）电荷无法中和。（）溅射可以克服直流溅射的局限，可以沉积任何固体薄膜，其使用的电源频率为（）MHz. 离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。
