关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-04 直流溅射只能沉积（）膜，而不能沉积（）膜，原因在于靶面的（）电荷无法中和。（）溅射可以克服直流溅射的局限，可以沉积任何固体薄膜，其使用的电源频率为（）MHz. 直流溅射只能沉积（）膜，而不能沉积（）膜，原因在于靶面的（）电荷无法中和。（）溅射可以克服直流溅射的局限，可以沉积任何固体薄膜，其使用的电源频率为（）MHz. 答案： 查看 举一反三 下列溅射设备中可以制备绝缘体的是(<br/>)。 A: 直流溅射 B: 高频溅射 C: 磁控溅射 D: 反应溅射 薄膜物理气相沉积（PVD）技术主要分为 、溅射沉积和 三种技术。 既能够溅射金属又能够溅射绝缘介质的是方法是 A: 直流溅射 B: 射频溅射 磁控溅射可以增加溅射气体碰撞的概率，提高了沉积效率。 采用高能离子轰击某种材料制成的靶材，靶材原子被溅射脱落后其沉积到工件表面的加工方法，称为离子溅射沉积法。? 错误|正确
