常用的溅射镀膜方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射，其中磁控溅射的气压最低、靶电流密度最高。
对
举一反三
内容
- 0
下列溅射设备中可以制备绝缘体的是(<br/>)。 A: 直流溅射 B: 高频溅射 C: 磁控溅射 D: 反应溅射
- 1
既能够溅射金属又能够溅射绝缘介质的是方法是 A: 直流溅射 B: 射频溅射
- 2
① 磁控溅射与直流二极溅射相比有什么优点？
- 3
运用磁控溅射方法,在金丝(Au)上溅射一层金属锌膜,需要什么样的溅射条件啊?
- 4
与普通溅射法相比，磁控溅射的特点是什么？