干法刻蚀是利用 进行薄膜刻蚀的技术
A: 、等离子体
B: 、离子
C: 、光子
D: 、电子
A: 、等离子体
B: 、离子
C: 、光子
D: 、电子
A
举一反三
- （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 化学刻蚀 D: 物理刻蚀
- 两种刻蚀方法中,属于各向同性刻蚀的是: A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 离子刻蚀 D: 溅射刻蚀
- 干法刻蚀一般通过气体放电产生离子或者活性基对薄膜进行刻蚀，干法刻蚀可以实现各向异性刻蚀，原因是 A: 离子可用电磁场对其能量和运动方向进行控制 B: 活性基的运动是随机的 C: 活性基可以对基板进行化学刻蚀 D: 离子的动能不一样，刻蚀速率不一样
- 干法刻蚀一般通过气体放电产生离子或者活性基对薄膜进行刻蚀，干法刻蚀可以实现各向异性刻蚀，原因是</p></p>
- 中国大学MOOC: （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。
内容
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三种干法刻蚀方法中，选择性最好的是 。 A: 等离子刻蚀 B: 溅射刻蚀 C: 反应离子刻蚀 D: 湿法刻蚀
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中国大学MOOC: 刻蚀的方法有两类：湿法刻蚀和干法刻蚀，其中，（）是利用液体化学试剂以化学形式除去硅片表面材料。而（）是利用等离子体辅助来进行刻蚀的技术，刻蚀反应中不涉及液体。
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STI隔离技术中，为什么采用干法离子刻蚀形成槽？
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干法刻蚀和湿法刻蚀二者中，通常（）的刻蚀选择比较高，（）的刻蚀通常是各向异性。 A: 湿法刻蚀 干法刻蚀 B: 干法刻蚀 湿法刻蚀 C: 湿法刻蚀 湿法刻蚀 D: 干法刻蚀 干法刻蚀
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什么是干法刻蚀？干法有几种刻蚀方法？