关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告:维护QQ群:833371870,欢迎加入!公告:维护QQ群:833371870,欢迎加入!公告:维护QQ群:833371870,欢迎加入! 2022-10-27 180.光刻过程中,如果涂胶不好,特别是HMDS涂得不好,胶与硅片粘附性差,会造成局部区域[br][/br]的胶脱落,导致图形不完整。 180.光刻过程中,如果涂胶不好,特别是HMDS涂得不好,胶与硅片粘附性差,会造成局部区域[br][/br]的胶脱落,导致图形不完整。 答案: 查看 举一反三 光刻过程中,如果涂胶不好,特别是HMDS涂得不好,胶与硅片粘附性差,会造成局部区域的胶脱落,导致图形不完整。( ) 光刻工艺中“涂胶”的是( ) A: 在玻璃表面涂光刻胶 B: 在边框处涂封框胶 C: 在灌注口涂封口胶 D: 在引线连接部位涂银点胶 匀胶前处理(加HMDS)是为了去除粘附在硅片表面的尘埃。 光学光刻中,把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。 机器人在进行涂胶时不需要注意的涂胶工艺的参数是( )。 A: 涂胶量 B: 涂覆遍数 C: 胶层厚度 D: 胶枪重量