关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是间隙式扩散机制和替代式扩散机制。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。 A: 激活杂质后 B: 一种物质在另一种物质中的运动 C: 预淀积 D: 高温多步退火 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是间隙式扩散机制和替代式扩散机制。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。A: 激活杂质后B: 一种物质在另一种物质中的运动C: 预淀积D: 高温多步退火 答案： 查看 举一反三 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。 杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种：间隙式扩散、替位式扩散。其中间隙式扩散比替位式扩散困难。 杂质在硅晶体中的扩散可分为两种机制，分别为 扩散和 扩散。 11、杂质原子在半导体中的两种基本扩散机制是______ 扩散和______ 扩散。 杂质原子进入半导体硅以后，可以哪些种方式存在（） A: 间隙式杂质 B: 替位式杂质 C: 过渡元素杂质 D: 稀土杂质
