中国大学MOOC: 清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和
防止再污染
举一反三
内容
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利用含有较高能量的呈束流状的物质流（能量流）与硅片表面的沾污杂质发生的作用而清除硅片表面杂质的技术为 A: 气相清洗 B: 束流清洗 C: RCA清洗 D: 超声波清洗
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SC-2，又称2号清洗液，在晶圆清洗技术中主要是用来去除硅片表面的 。 A: 颗粒 B: 有机沾污 C: 自然氧化层 D: 金属沾污
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硅片表面常见的沾污（Contamination）主要有：颗粒、 、金属离子、 和静电释放。 A:
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硅片最常见的沾污类型有（）、（）、（）、（）和（）。
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单晶原硅片的表面沾污有哪些（）。 A: 有机物沾污 B: 金属沾污 C: 以上均不是