关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 中国大学MOOC: 硅片表面常见的沾污包括 中国大学MOOC: 硅片表面常见的沾污包括 答案： 查看 举一反三 硅片表面常见的沾污包括 A: 颗粒 B: 有机残余物 C: 金属离子 D: 自然氧化物 硅片表面常见的沾污包括 A: 颗粒 B: 有机残余物 C: 金属离子 D: 自然氧化层 中国大学MOOC: 清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和 硅片表面常见的沾污（Contamination）主要有：颗粒、 、金属离子、 和静电释放。 A: 硅片最常见的沾污类型有（）、（）、（）、（）和（）。
