关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-04 下列关于真空蒸发法和溅射法镀膜对比叙述正确的是() A: 溅射法沉积原子的能量通常更高 B: 真空蒸发法所镀薄膜在基材上的附着力更好 C: 溅射的靶材不能是极难熔的材料 D: 制备合金薄膜时,利用蒸发法其成分的控制性能更好 下列关于真空蒸发法和溅射法镀膜对比叙述正确的是()A: 溅射法沉积原子的能量通常更高B: 真空蒸发法所镀薄膜在基材上的附着力更好C: 溅射的靶材不能是极难熔的材料D: 制备合金薄膜时,利用蒸发法其成分的控制性能更好 答案： 查看 举一反三 溅射法与蒸镀法相比较，溅射法制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。 蒸发和溅射的金属和合金薄膜电阻材料，为什么常在真空或大气进行热处理，其目的是什么？ 溅射比蒸发制备的薄膜的台阶覆盖比要好。 A: 正确 B: 错误 物理气相沉积法主要包括 A: 真空蒸镀 B: 激光镀膜 C: 溅射镀膜 D: 离子镀膜 溅射与蒸镀比较，溅射制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。
