前烘的目的是（）使胶膜中的溶剂只有初始浓度的（）。从而，使胶的（）性能稳定。对正胶，前烘过度会使非曝光区的胶（）；前烘不足，会使胶的感光度（），对比度（），线条边缘不陡直。所以，必须严格控制前烘的（）和（）。
去除胶膜中的大部分溶剂；5%；曝光；部分溶解；提高；降低；时间；温度
举一反三
内容
- 0
中国大学MOOC: 不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤：1. 刻蚀 2.前烘 3.显影 4. 去胶 5．涂胶 6. 曝光 7. 坚膜. 以下选项排列正确的是（ ）。
- 1
智慧职教: 胶预烘要求
- 2
光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。 A: 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶 B: 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶 C: 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶 D: 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
- 3
光刻流程中通过加温烘烤使胶膜更牢固地黏附在晶圆表面，并可 以増加胶层的抗刻蚀能力的工艺步骤是（）。 A: 坚膜 B: 前烘 C: 后烘 D: 涂胶
- 4
不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤： 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是：（）。 A: 2561437 B: 5263471 C: 5263741 D: 5263714。