7、曝光后变为可溶物质的光刻胶称为______ 光刻胶，经显影后的光刻胶图形与掩膜版图形______ ；曝光后变得不可溶的光刻胶称为______ 光刻胶，经显影后的光刻胶图形与掩膜版图形______ 。
举一反三
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版
- 光刻工艺所需要的三要素为： A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光源、光刻胶和曝光时间 C: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 D: 光源、掩模版和超净间 E: 光源、光刻胶和掩模版
- 光刻胶在曝光前______ 溶于某种溶液,而曝光后变为______ 可溶,这种胶称为正胶。
- 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
- 光刻工艺所需要的三要素为() A: 光源、光刻胶和掩模版 B: 光刻胶、掩模版和光刻机 C: 光源、掩模版和超净间 D: 光刻胶、掩模版和光刻焦深