在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
A: CA光刻胶对深紫外光吸收小
B: CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
C: CA光刻胶在显影液中的可溶性强
D: 有较高的光敏度
E: 有较高的对比度
A: CA光刻胶对深紫外光吸收小
B: CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
C: CA光刻胶在显影液中的可溶性强
D: 有较高的光敏度
E: 有较高的对比度
举一反三
- 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。 A: ACA光刻胶对深紫外光吸收小 B: BCA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化 C: CCA光刻胶在显影液中的可溶性强 D: D有较高的光敏度 E: E有较高的对比度
- 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
- 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。 A: DQN B: CA C: ARC D: PMMA
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版
- 显影就是溶解掉正胶工艺的光刻胶，或负胶工艺的光刻胶。该工艺中需要严格控制和。 A: 被曝光 B: 未曝光 C: 显影液温度 D: 显影时间