在RIE、等离子体刻蚀、离子铣三种干法刻蚀中，各向异性效果比较： A: 离子铣>;等离子体刻蚀>;RIE B: 等离子体刻蚀>;离子铣>;RIE C: 离子铣>;RIE>;等离子体刻蚀 D: RIE>;离子铣>;等离子体刻蚀
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RIE的含义是 A: 溅射刻蚀 B: 反应离子刻蚀 C: 等离子体刻蚀
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在三种干法刻蚀中各向异性效果优劣排序：离子铣>RIE>等离子体刻蚀。
在三种干法刻蚀中各向异性效果优劣排序：离子铣>RIE>等离子体刻蚀。
中国大学MOOC: 在RIE、等离子体刻蚀、离子铣三种干法刻蚀中，各向异性效果比较：
中国大学MOOC: 在RIE、等离子体刻蚀、离子铣三种干法刻蚀中，各向异性效果比较：
在RIE刻蚀中,深宽比越大,刻蚀速率越()。 A: 快 B: 慢 C: 一样
在RIE刻蚀中,深宽比越大,刻蚀速率越()。 A: 快 B: 慢 C: 一样
干法刻蚀主要包括下面几类（）。 A: 离子束刻蚀IBE B: 等离子体刻蚀PE C: 反应离子刻蚀RIE D: 高密度等离子体刻蚀HDP
干法刻蚀主要包括下面几类（）。 A: 离子束刻蚀IBE B: 等离子体刻蚀PE C: 反应离子刻蚀RIE D: 高密度等离子体刻蚀HDP
RIE刻蚀反应的过程为: A: 物理作用 B: 化学作用 C: 既有物理作用,又有化学作用 D: 无作用
RIE刻蚀反应的过程为: A: 物理作用 B: 化学作用 C: 既有物理作用,又有化学作用 D: 无作用
Goscinny a publié ( ) avec Sempé la série Le Petit Nicolas en 1959. A: en collaboration B: en public C: en secret D: en solo
Goscinny a publié ( ) avec Sempé la série Le Petit Nicolas en 1959. A: en collaboration B: en public C: en secret D: en solo
反应离子刻蚀RIE刻蚀时选择最优的刻蚀掺数的组合可以在保证表面光滑和一定的速率和方向性。
反应离子刻蚀RIE刻蚀时选择最优的刻蚀掺数的组合可以在保证表面光滑和一定的速率和方向性。