课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是()
A: 光刻胶
B: 光刻掩膜板
C: 光刻机
D: 硅片
A: 光刻胶
B: 光刻掩膜板
C: 光刻机
D: 硅片
举一反三
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版
- 光刻工艺所需要的三要素为() A: 光源、光刻胶和掩模版 B: 光刻胶、掩模版和光刻机 C: 光源、掩模版和超净间 D: 光刻胶、掩模版和光刻焦深
- 光刻工艺所需要的三要素为： A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光源、光刻胶和曝光时间 C: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 D: 光源、掩模版和超净间 E: 光源、光刻胶和掩模版
- 下列选项中，哪一项不属于光刻三要素（） A: 显影 B: 掩膜版 C: 光刻机 D: 光刻胶
- 光刻技术的三大要素是 A: 曝光机 B: 掩膜版 C: 光刻胶 D: 显影液