关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-15 3. 光刻掩膜版衬底材料是 。 A: 金 B: 铬 C: 银 D: 铜 3. 光刻掩膜版衬底材料是 。A: 金B: 铬C: 银D: 铜 答案： 查看 举一反三 集成电路制造与集成电路设计相关纽带是光刻掩膜版。 光刻技术的三大要素是 A: 曝光机 B: 掩膜版 C: 光刻胶 D: 显影液 光学光刻中，把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。 以下各项不属于光刻工艺三要素是: A: 光刻胶 B: 显影液 C: 曝光机 D: 掩膜版 下列选项中，哪一项不属于光刻三要素（） A: 显影 B: 掩膜版 C: 光刻机 D: 光刻胶
