投影式光刻中的离轴光源技术能够增大曝光时透镜的数值孔径。( )
举一反三
- 在光刻工艺中,曝光光源的波长越长,则光刻的分辨率越 ;投影式曝光系统中透镜的数值孔径(NA)越大,分辨率越 ;光刻胶的对比度越大,则光刻的分辨率越 。
- 浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气,达到()的目的。 A: 增大光源波长; B: 减小光源波长; C: 减小光学系统数值孔径; D: 增大光学系统数值孔径。
- 光刻技术中的曝光方式有()。 A: 接近式曝光 B: 接触式曝光 C: 投影式曝光
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种?()。 A: 压印式光刻 B: 投影式光刻 C: 接近式光刻 D: 接触式光刻
- 光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪三种?() A: 接触式光刻 B: 接近式光刻 C: 投影式光刻 D: 压印式光刻