离子束刻蚀也可称为溅射刻蚀，该刻蚀过程为（）。
A: 化学性刻蚀
B: 既有物理刻蚀又包含化学刻蚀
C: 物理性刻蚀
D: 其他选项都不正确
A: 化学性刻蚀
B: 既有物理刻蚀又包含化学刻蚀
C: 物理性刻蚀
D: 其他选项都不正确
举一反三
- 反应离子刻蚀RIE的主要特点是（）。 A: 只属于物理性刻蚀 B: 只属于化学性刻蚀 C: 既有物理刻蚀又包含化学刻蚀 D: 以上选项都不正确
- 反应离子刻蚀是 A: 化学刻蚀机理 B: 物理刻蚀机理 C: 物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
- （）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 等离子体刻蚀 B: 化学刻蚀 C: 离子束刻蚀 D: 电子束刻蚀
- （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 化学刻蚀 D: 物理刻蚀
- 下面（）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 化学刻蚀 B: 电子束刻蚀 C: 等离子体刻蚀 D: 离子束刻蚀