反应离子刻蚀是
A: 化学刻蚀机理
B: 物理刻蚀机理
C: 物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
A: 化学刻蚀机理
B: 物理刻蚀机理
C: 物理的溅射刻蚀和化学的反应刻蚀相结合
举一反三
- 离子束刻蚀也可称为溅射刻蚀，该刻蚀过程为（）。 A: 化学性刻蚀 B: 既有物理刻蚀又包含化学刻蚀 C: 物理性刻蚀 D: 其他选项都不正确
- 以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）。 A: 湿法刻蚀 B: 溅射刻蚀 C: 等离子体刻蚀 D: 反应离子刻蚀
- 反应离子刻蚀RIE的主要特点是（）。 A: 只属于物理性刻蚀 B: 只属于化学性刻蚀 C: 既有物理刻蚀又包含化学刻蚀 D: 以上选项都不正确
- （）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 化学刻蚀 D: 物理刻蚀
- 三种干法刻蚀方法中，选择性最好的是 。 A: 等离子刻蚀 B: 溅射刻蚀 C: 反应离子刻蚀 D: 湿法刻蚀