关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 在半导体光刻技术中，最早使用的是负性光刻胶，它具有良好的粘附性。 A: 正确 B: 错误 在半导体光刻技术中，最早使用的是负性光刻胶，它具有良好的粘附性。A: 正确B: 错误 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 在半导体光刻技术中，最早使用的是负性光刻胶，它具有良好的粘附性。 在半导体微光刻技术中最早使用的光刻胶主要是负性光刻胶。 A: 正确 B: 错误 在半导体微光刻技术中最早使用的光刻胶主要是负性光刻胶。 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。 A: 正性光刻胶 B: 正性或负性光刻胶 C: 负性光刻胶 D: 电子束光刻胶 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
