在刻蚀工艺中，减少工艺的压力可以提高刻蚀气体的平均自由程，刻蚀气体容易达到薄膜表面，可以降低宏观负载效应。
错误
举一反三
内容
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刻蚀工艺有哪两种类型？简单描述各类刻蚀工艺。
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微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种( )。 A: 离子束刻蚀、激光刻蚀 B: 干法刻蚀、湿法刻蚀 C: 溅射加工、直写加工 D: 激光刻蚀、电子束刻蚀
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采用无机碱（KOH/NaOH）在刻蚀工艺中对扩散后硅片背面及边缘进行刻蚀抛光，替代传统酸抛光刻蚀工艺，能够取得更好的抛光性能，并降低工艺成本。
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微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种（ ）。 A: 离子束刻蚀、激光刻蚀 B: 干法刻蚀、湿法刻蚀 C: 溅射加工、直写加工
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在刻蚀中用到大量的化学气体，通常用氟刻蚀二氧化硅。