关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？ 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？ 答案： 查看 举一反三 课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是() A: 光刻胶 B: 光刻掩膜板 C: 光刻机 D: 硅片 光刻是IC制造中最关键的工艺，光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。 显影不足或清洗不适当硅片表面就会有光刻胶残膜,直接影响到光刻的质量。 光刻是IC制造中最关键的工艺，光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。 A: 正确 B: 错误 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
