关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 显影不足或清洗不适当硅片表面就会有光刻胶残膜,直接影响到光刻的质量。 显影不足或清洗不适当硅片表面就会有光刻胶残膜,直接影响到光刻的质量。 答案： 查看 举一反三 课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是() A: 光刻胶 B: 光刻掩膜板 C: 光刻机 D: 硅片 光刻软烘烤（前烘）的原因有（ ） A: 将硅片上覆盖的光刻胶溶剂去除 B: 增强光刻胶的粘附性以便在显影时光刻胶可以很好的粘附 C: 缓和在旋转过程中光刻胶膜内产生的应力 D: 防止光刻胶沾到设备上 下列选项中，哪一项不属于光刻三要素（） A: 显影 B: 掩膜版 C: 光刻机 D: 光刻胶 光学光刻中，把与掩膜版上图形的相同图形复制到硅片表面的光刻是正性光刻。 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
