关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 实现超微图形成像的（）技术一直是推动集成电路工艺技术水平发展的核心驱动力。 A: 光刻 B: 刻蚀 C: 氧化 D: 溅射 实现超微图形成像的（）技术一直是推动集成电路工艺技术水平发展的核心驱动力。A: 光刻B: 刻蚀C: 氧化D: 溅射 答案： 查看 举一反三 集成电路制造中图形转移是通过什么工艺实现的 A: 扩散 B: 刻蚀 C: 光刻 D: 蒸发 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。 集成电路制造工艺技术主要包括：热工艺、（）、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。 刻蚀工艺可以和以下哪个工艺结合来实现图形的转移? ( ) A: 氧化 B: 光刻 C: 抛光 D: 离子注入 光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。 A: 正确 B: 错误
