关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 利用旋涂玻璃进行平坦化时采用的“三明治”结构为:PECVD 淀积第一层SiO2;SOG 的涂布与固化;LPCVD 淀积第二层SiO2 。( ) 利用旋涂玻璃进行平坦化时采用的“三明治”结构为:PECVD 淀积第一层SiO2;SOG 的涂布与固化;LPCVD 淀积第二层SiO2 。( ) 答案： 查看 举一反三 在淀积好金属层之外，通常采用LPCVD法来淀积SiO2。 在淀积好金属层之外，通常采用LPCVD法来淀积SiO2。 A: 正确 B: 错误 中国大学MOOC: LPCVD淀积SiO2温度适中（700-800℃），对杂质再分布影响小， LPCVD和PECVD的不同包括: A: LPCVD 主要采用加热的方式提供化学反应的能量 B: PECVD主要采用等离子体提供能量 C: LPCVD温度比较高,只能用于金属前介质的淀积 D: PECVD温度比较低,适合金属间介质的淀积 ()采用增强的等离子体,从而增加淀积能量,降低沉积温度。 A: APCVD B: LPCVD C: PECVD
