关于物理气相沉积法与化学气相沉积法,下列说法正确的是?
A: 物理气相沉积法与化学气相沉积法的原料都可以是固态的
B: 两者的反应过程装置相同
C: 物理气相沉积法只涉及到材料物质状态的变化
D: 化学气相沉积法只涉及到材料物质状态的变化
A: 物理气相沉积法与化学气相沉积法的原料都可以是固态的
B: 两者的反应过程装置相同
C: 物理气相沉积法只涉及到材料物质状态的变化
D: 化学气相沉积法只涉及到材料物质状态的变化
A,A,C
举一反三
内容
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化学气相沉积法和物理气相沉积法最主要的区别在于前者需要在真空环境下进行。
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化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么？
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以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有（ ）。 A: 液相外延（LPE）法 B: 化学气相沉积（CVD）法 C: 等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 D: 低压化学气相沉积（LPCVD）
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简要说明物理气相沉积和化学气相沉积的区别是什么？
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化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了（）。