在两水平析因设计中，在加入中心点之后检验出纯二次项是显著的，但若此时所有的数据量不足以估计出二阶响应曲面模型的所有参数，则可以在[img=17x23]180345a7d75d55b.png[/img]设计中加入若干次轴试验（axial run），由此得到的设计称为
A: 完全随机的正交设计
B: 增加试验点的析因设计
C: 中心复合设计
D: 区组设计
A: 完全随机的正交设计
B: 增加试验点的析因设计
C: 中心复合设计
D: 区组设计
举一反三
- 在两水平析因设计中，为了估计出二阶响应曲面模型中的所有参数，当实验点的个数不足时可以在[img=17x23]18037fed9d1bc0d.png[/img]设计中加入若干次轴试验，这样的设计称为中心复合设计，请根据中心复合设计的设计方法判断以下a—i 9个实验点中，属于“中心复合设计”新增加的试验点的有[img=584x570]18037fedac3a535.png[/img] A: aci B: ceg C: bdf D: bcg
- 在单次重复的[img=17x23]180345a8b24628a.png[/img]析因设计中，由于每个试验点处只有一个实验数据，无法得到在这个实验条件下的实验结果的方差，因此我们无法判断单次重复析因设计的分散效应(dispersion effect)
- 在两水平析因设计中，为了模拟响应函数的弯曲性，我们拟合一个二阶响应曲面模型[img=375x65]180345a953ec996.png[/img]。用加入中心点的方法来检验弯曲性，实际上是检验假设[img=268x65]180345a95fcfb8d.png[/img]。
- 【单选题】下列试验设计表示法中,需要完成的试验次数最多的是 A. 四因素二水平的析因试验设计 B. 四因素三水平的正交试验设计 C. 三因素三水平的析因试验设计 D. 三因素三水平的正交试验设计
- 在n次重复的[img=16x22]18037fefa5e56e7.png[/img]析因设计中，可以通过拟合回归模型生成响应曲面图，进而通过拟合出的响应曲面图来确定该析因设计两个因子水平的潜在改进方向。