高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞，逐步损失能量，最后停下来。离子注入过程是一个平衡过程。
A: 正确
B: 错误
A: 正确
B: 错误
举一反三
- 高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞，逐步损失能量，最后停下来。离子注入过程是一个平衡过程。 A: 正确 B: 错误
- 离子注入过程是一个非平衡过程，高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞，逐步损失能量，最后停下来。停下来的位置是随机的，大部分不在晶格上，因而没有（）。 A: 电活性 B: 晶格损伤 C: 横向效应 D: 沟道效应
- 8-7离子进入工件表面后，与工件内原子和电子发生一系列碰撞。这—系列碰撞主要包括二个独立的过程： A: 质子碰撞：入射离子与工件质子的弹性碰撞。 B: 核碰撞：入射离子与工件原子核的弹性碰撞。 C: 中子碰撞：入射离子与工件中子的弹性碰撞。 D: 电子碰撞：入射离子与工件内电子的非弹性碰撞，其结果可能引起离子激发原子中的电子或使原子获得电子、电离或X射线发射等。
- 对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。 A: 入射离子的能量 B: 入射离子的质量 C: 入射离子的原子序数 D: 靶原子的质量、原子序数、原子密度 E: 注入离子的总剂量
- 关于离子注入,说法错误的是() A: 离子注入可以制备超浅结 B: 增大注入剂量,有可能形成非晶层 C: 原子越重,核阻止越大 D: 高能离子,以核阻止为主