HDPCVD制备的介质薄膜的台阶覆盖特性不好。
错误
举一反三
内容
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主要由反应控制决定薄膜生长有利于台阶覆盖 A: 正确 B: 错误
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如果要求淀积非金属薄膜的台阶覆盖性（保角特性）好，应该使用下列哪种工艺？ A: APCVD B: APCVD C: PECVD D: PECVD
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题目：不同介质中制备具有光催化特性的纳米TiO2
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PECVD方法制备薄膜的温度比较低，LPCVD的方法比较高，因此前者适应于金属前介质，后者应用与金属层间介质。
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蒸发热法湿阻测试中，需要在多孔测试板上覆盖具有 特性的薄膜