以下各项中不属于光刻工艺三要素的是： 。
A: 光刻胶
B: 显影液
C: 曝光机
D: 掩模版
A: 光刻胶
B: 显影液
C: 曝光机
D: 掩模版
举一反三
- 以下各项不属于光刻工艺三要素是: A: 光刻胶 B: 显影液 C: 曝光机 D: 掩膜版
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版
- 光刻技术的三大要素是 A: 曝光机 B: 掩膜版 C: 光刻胶 D: 显影液
- 光刻工艺所需要的三要素为： A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光源、光刻胶和曝光时间 C: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 D: 光源、掩模版和超净间 E: 光源、光刻胶和掩模版
- 光刻工艺所需要的三要素为() A: 光源、光刻胶和掩模版 B: 光刻胶、掩模版和光刻机 C: 光源、掩模版和超净间 D: 光刻胶、掩模版和光刻焦深