关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 对于负性光刻胶，当曝光量不足时在显影时会发生脱胶现象。 对于负性光刻胶，当曝光量不足时在显影时会发生脱胶现象。 答案： 查看 举一反三 对于负性光刻胶，当曝光量不足时在显影时会发生脱胶现象。 A: 正确 B: 错误 显影就是溶解掉正胶工艺的光刻胶，或负胶工艺的光刻胶。该工艺中需要严格控制和。 A: 被曝光 B: 未曝光 C: 显影液温度 D: 显影时间 在半导体微光刻技术中最早使用的光刻胶主要是负性光刻胶。 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（ ）。 A: 正性光刻胶 B: 正性或负性光刻胶 C: 负性光刻胶 D: 电子束光刻胶 在半导体微光刻技术中最早使用的光刻胶主要是负性光刻胶。 A: 正确 B: 错误
