光刻胶的主要成份所起的作用，叙述正确的是
A: 溶剂，使光刻胶具有流动性。
B: 聚合体，控制光刻胶材料特殊方面的化学物质。
C: 感光剂，光刻胶材料的光敏成分。
D: 添加剂，作为粘合剂的聚合物的混合物,给予光刻胶机械和化学性质。
A: 溶剂，使光刻胶具有流动性。
B: 聚合体，控制光刻胶材料特殊方面的化学物质。
C: 感光剂，光刻胶材料的光敏成分。
D: 添加剂，作为粘合剂的聚合物的混合物,给予光刻胶机械和化学性质。
举一反三
- 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版
- 在光刻工艺中，前烘的主要目的是（）。 A: 蒸发掉胶中的有机溶剂成分，使晶圆表面的胶固化 B: 缓和在旋转过程中光刻胶膜内产生的应力 C: 防止沾污设备 D: 增强光刻胶的粘附性
- 光刻工艺所需要的三要素为() A: 光源、光刻胶和掩模版 B: 光刻胶、掩模版和光刻机 C: 光源、掩模版和超净间 D: 光刻胶、掩模版和光刻焦深
- 光刻工艺所需要的三要素为： A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光源、光刻胶和曝光时间 C: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 D: 光源、掩模版和超净间 E: 光源、光刻胶和掩模版