光刻的分辨率是光刻工艺、光刻机等重要的指标，提高光刻系统图形加工分辨率可以采用的方法有( )
A: 采用合适的设备如数值孔径更大的光刻机
B: 利用直径足够大的晶圆片
C: 采用相移掩膜
D: X-ray光刻
A: 采用合适的设备如数值孔径更大的光刻机
B: 利用直径足够大的晶圆片
C: 采用相移掩膜
D: X-ray光刻
举一反三
- 课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是() A: 光刻胶 B: 光刻掩膜板 C: 光刻机 D: 硅片
- 在传统光刻机的光学镜头与晶圆之间的介质可用水替代空气,以缩短曝光光源波长和增大镜头的数值孔径,从而提高分辨率,这种光刻技术是: A: 极紫外光光刻 B: 电子束光刻 C: 离子束光刻 D: 浸润式光刻
- 关于光刻分辨率,下列哪一种说法是错误的() A: 减小波长可以提高分辨率 B: 采用浸入式光刻可以提高分辨率 C: 使用移相掩膜技术制备的光刻版可以提高分辨率 D: 接近式光刻的分辨率可以达到50nm
- 浸入式光刻技术可以提高光刻的分辨率。
- 浸入式光刻技术可以提高光刻的分辨率。 A: 正确 B: 错误