关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-16 去膜工艺中的“膜”是指： A: ITO膜 B: 二氧化硅层 C: 光刻胶 D: 保护膜 去膜工艺中的“膜”是指：A: ITO膜B: 二氧化硅层C: 光刻胶D: 保护膜 答案： 查看 举一反三 中国大学MOOC: 去膜工艺中的“膜”是指： 课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是() A: 光刻胶 B: 光刻掩膜板 C: 光刻机 D: 硅片 以下各项不属于光刻工艺三要素是: A: 光刻胶 B: 显影液 C: 曝光机 D: 掩膜版 集成电路制造工艺中，二氧化硅膜不能用于： 。 A: 元器件的组成部分（如栅氧化层） B: 源漏极 C: 互连层间绝缘介质 D: 作为掩蔽膜 ⑧ ITO膜是指什么膜？ A: 铁铝氧化物膜 B: 硅铝氧化物膜 C: 铟锡氧化物膜 D: D铜锌氧化物膜
