利用一定的化学试剂将经过曝光后的可溶性的光刻胶溶解掉，从而在光刻胶上显示出掩膜版相对应的图形，该工序称为： 。
A: 涂胶
B: 曝光
C: 显影
D: 刻蚀
A: 涂胶
B: 曝光
C: 显影
D: 刻蚀
举一反三
- 中国大学MOOC: 利用一定的化学试剂将经过曝光后的可溶性的光刻胶溶解掉，从而在光刻胶上显示出掩膜版相对应的图形，该工序称为
- 7、曝光后变为可溶物质的光刻胶称为______ 光刻胶，经显影后的光刻胶图形与掩膜版图形______ ；曝光后变得不可溶的光刻胶称为______ 光刻胶，经显影后的光刻胶图形与掩膜版图形______ 。
- 光刻技术的三大要素是 A: 曝光机 B: 掩膜版 C: 光刻胶 D: 显影液
- 以下各项不属于光刻工艺三要素是: A: 光刻胶 B: 显影液 C: 曝光机 D: 掩膜版
- 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版