关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-06-03 溅射工艺下面哪种方法可以改善其薄膜的台阶覆盖特性： A: 提高衬底加热温度 B: 提高溅射室真空度 C: 衬底上加载射频偏压 D: 在衬底正上方插入准直器 溅射工艺下面哪种方法可以改善其薄膜的台阶覆盖特性：A: 提高衬底加热温度B: 提高溅射室真空度C: 衬底上加载射频偏压D: 在衬底正上方插入准直器 答案： 查看 举一反三 磁控溅射为何既可以提高溅射速度又可以降低衬底温度？ 薄膜器件由于其工艺条件的需求，无机材料薄膜难以直接在柔性衬底上生长,通过______ 技术实现无机衬底上生长的器件到柔性衬底器件的过程。 抑制离子注入工艺中沟道效应的方法有（ ）。 A: 倾斜衬底 B: 升高衬底温度 C: 降低离子注入能量 D: 衬底表面沉积非晶薄膜 制备多晶硅薄膜的CVD方法可分为高温工艺和低温工艺两种。高温工艺中，衬底温度超过600℃，以廉价普通玻璃为衬底；低温工艺的衬底温度低于600℃，以昂贵的石英玻璃等作衬底。 柔性无机器件通常是在玻璃衬底上沉积薄膜；而柔性有机器件通常是在硅衬底或Ⅲ-Ⅴ族化合物衬底上沉积薄膜。
