以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）。
A: 湿法刻蚀
B: 溅射刻蚀
C: 等离子体刻蚀
D: 反应离子刻蚀
A: 湿法刻蚀
B: 溅射刻蚀
C: 等离子体刻蚀
D: 反应离子刻蚀
B,D
举一反三
内容
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（）的刻蚀方法是以等离子体辅助来进行薄膜刻蚀的一种技术。 A: 干法刻蚀 B: 湿法刻蚀 C: 化学刻蚀 D: 物理刻蚀
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（）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 等离子体刻蚀 B: 化学刻蚀 C: 离子束刻蚀 D: 电子束刻蚀
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微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种( )。 A: 离子束刻蚀、激光刻蚀 B: 干法刻蚀、湿法刻蚀 C: 溅射加工、直写加工 D: 激光刻蚀、电子束刻蚀
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RIE的含义是 A: 溅射刻蚀 B: 反应离子刻蚀 C: 等离子体刻蚀
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下面（）刻蚀方法是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。 A: 化学刻蚀 B: 电子束刻蚀 C: 等离子体刻蚀 D: 离子束刻蚀