关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-27 光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。 光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。 答案： 查看 举一反三 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。 光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。 光刻工艺所需要的三要素为: A: 光刻胶、掩模版和光刻机 B: 光刻胶、掩模版和光刻焦深 C: 光源、光刻胶和曝光时间 D: 光源、光刻胶和掩模版 在半导体微光刻技术中最早使用的光刻胶主要是负性光刻胶。
