关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 关注微信公众号《课帮忙》查题 公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！公告：维护QQ群：833371870，欢迎加入！ 2022-10-26 多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备： A: APCVD B: 磁控溅射 C: LPCVD D: VPE 多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备：A: APCVDB: 磁控溅射C: LPCVDD: VPE 答案： 查看 举一反三 多晶硅薄膜通常采取哪种方法制备： 采用LPCVD或PECVD方法可以制备下列哪种薄膜： A: 单晶硅 B: 多晶硅 C: 非晶介质 D: 二氧化硅 溅射制备SiO2薄膜，通常采用 ______ 溅射方法。 利用LPCVD法制备多晶硅薄膜时，可以选择普通玻璃作为衬底。 所谓多晶硅薄膜的间接制备法，就是先制备得到（ ）薄膜，再通过不同的晶化技术，将其晶化为多晶硅薄膜。 A: 非晶硅 B: 单晶硅 C: 微晶硅 D: 多晶硅
